第三届国巨科技艺术创作奖征选简章

一、宗旨：

国巨基金会（YAGEO Foundation）与亚洲文化协会（Asian Cultural Council）合作，共同赞助一名台湾艺术家，赴纽约市Location One 科技艺术村，进行研习进修及创作发表，以提升台湾科技艺术创作潜能，并建立国际文化之交流管道。

二、主办单位：国巨基金会

三、合作单位：亚洲文化协会

四、申请资格：

1. 具备中华民国国籍之国民，且在台湾地区生活与创作者。

2. 以视觉艺术家为主，且非学生身份，并曾有过二次展览经验以上者。（以申请时为凭）

3. 具备英文沟通能力者。

五、申请方式：

1. 申请期间：自2003年12月15日起可亲至亚洲文化协会台北分会索取中文简章及申请表格；或附回邮信封函取；或以e-mail索取（e-mail: acctpe@tpts4.seed.net.tw 郜巧珍）。申请截止日为：2004年1月31日。

2. 送件方式：亲送及邮寄均可，所有送件数据存盘，恕不退件。(邮寄请以挂号邮件寄送，以邮戳为凭)

3. 申请地址：106台北市忠孝东路四段303号10楼之2 亚洲文化协会台北分会郜巧珍

4. 询问专线：

* 国巨基金会朱惠芬886-2-29177555 ext. 3794；e-mail: beryl.chu@YAGEO.com。

* 亚洲文化协会台北分会郜巧珍886-2-87718836；e-mail: acctpe@tpts4.seed.net.tw。

六、申请数据：

1. 本奖助之中、英文申请表格各一份。

2. 说明信：创作作品说明，补充于表格中未能详细说明之事项。

3. 近二年作品135正片6-10张、或VHS录像带、或CD光盘，并且标示中英文作品名称、媒材、尺寸、及创作时间。

七、评选结果：

预定公告暨通知获选人为驻地艺术家之时间为2004年6月。

八、注意事项：

驻地艺术家所缴交之数据（含作品），如经查证有违反实情者，即刻取消其资格，并赔偿本基金会已支付之一切费用，另所涉法律责任，由其个人自行负责。